高密度シートプラズマを用いたNBI加熱用非Cs型負イオン源の開発

21 Feb 2025, 15:30
20m
大会議室 (仁科RIBF棟2階)

大会議室

仁科RIBF棟2階

Speaker

Akira TONEGAWA (Tokai University)

Description

原型炉用NBI加熱では、長時間運転が可能でメンテナンスの容易な非セシウム(Cs)型負イオン源の開発が急務である。本研究室では、高密度シートプラズマを用いて非Cs型負イオン源(TPDsheet-U)の開発を推進している[1]。実験では、ガス圧力0.3Pa、引出し電圧10kVで水素負イオンビーム電流密度約8mA/cm2、随伴電子電流と負イオン電流比0.5~2.0が得られている。発表では、負イオンビームの引出し特性と大面積化用非Cs型負イオン源のプロトタイプ(TPDsheet-N)について報告する。
[1]A.Tonegawa,et al,Nucl.Fusion,61(2021)106030.

口頭発表/ポスター発表 Oral

Primary author

Akira TONEGAWA (Tokai University)

Presentation materials