Speaker
Kazuki Sakamoto
(National Institute of Technology, Niihama College)
Description
半導体製造工程におけるイオン注入には、ECRイオンビーム装置が利用されている。従来の装置は大型かつ高価であるため、本研究室では小型かつ安価で製作可能な卓上型ECRイオンビーム装置の開発を行っている。質量分離器には電磁場直交型分離器（ウィーンフィルタ : WF）を採用している。
本研究では、Arイオンビームを生成してWFで質量分離実験を行った。また、ビーム引出電圧と静電レンズ印加電圧を変化させ、ワイヤープローブによるイオンビームプロファイル測定でWFの質量分離の分解能を評価した。その結果、ビームがイオン種ごとに分離されていることがわかった。当日は詳細な実験結果について報告する。
| 口頭発表/ポスター発表 | Oral |
|---|
Primary authors
Kazuki Sakamoto
(National Institute of Technology, Niihama College)
Shinya Matsutomo
(National Institute of Technology, Niihama College)
Takayuki Hirata
(National Institute of Technology, Niihama College)
Toyohisa Asaji
(The university of Shiga Prefecture)
