負イオン源のメニスカスにおける密度依存性の解析

21 Feb 2025, 15:50
20m
大会議室 (仁科RIBF棟2階)

大会議室

仁科RIBF棟2階

Speaker

Kastuya Hayashi (Keio University)

Description

RF水素負イオン源において引き出されたビームが振動成分を持つことが観測されている。この物理において、引き出し孔に近い下流部領域におけるプラズマメニスカスに対する時間振動の影響を理解することが重要となる。特に負イオンを多く含むプラズマの場合、メニスカスのプラズマパラメータへの依存性は未だ不明である。
このメニスカスに関する物理過程を理解するための第一歩として、3D-PICコードKEIO-BFXを用いた定常シミュレーションにより、メニスカス形状の負イオンを含むプラズマ密度依存性を解析した。シミュレーションの結果、メニスカスは表面負イオンの生成量と、電子と負イオン密度の比に依存することが示唆された。

口頭発表/ポスター発表 Oral

Primary author

Kastuya Hayashi (Keio University)

Co-authors

Dr Akiyoshi Hatayama (Keio University) Dr Kazuo Hoshino (Keio University) Dr Kenji Miyamoto (Naruto University of Education)

Presentation materials